삼성전자, 2019 완공 목표 中 시안 반도체 2기 라인 착공

삼성전자가 3D V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 중국 시안 반도체 사업장 2기 라인 착공세 나선다고 28일 밝혔다. 시안 반도체 2기 라인을 구축해 낸드플래시(V-NAND)를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응 하겠다는 계획이다.

삼성전자는 지난해 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며 향후 3년간 총 70억 불을 투자한다고 밝힌 바 있다.

삼성전자는 시안 반도체 2기 라인 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중되어 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

김기남 삼성전자 사장은 "시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께 차별화된 솔루션을 고객에게 제공하여 글로벌 IT 시장 성장에 기여 하겠다"고 말했다.


김세형 기자 [e-mail]