삼성전자, 평택 2라인 낸드플래시 생산라인 투자

삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인 구축을 위해 투자에 나선다.

1일 삼성전자에 따르면 지난 5월 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수, 2021년 하반기 양산을 시작할 계획이다. 투자는 AI, IoT 등 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드수요 확대에 대응하기 위해 진행됐다. 최근 '언택트' 라이프스타일 확산으로 이런 추세가 더욱 가속될 것으로 예상되는 가운데 적극적인 투자로 미래 시장기회를 선점한다는 전략이다.

지난 2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로서 세계 최대규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 투자로 증설된 라인에서는 삼성전자의 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이다.

삼성전자는 2002년 낸드플래시 시장 1위에 올라 현재까지 18년 이상 독보적인 제조, 기술경쟁력으로 글로벌 시장 리더의 자리를 지키고 있으며 지난 해 7월 업계 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산한 바 있다.

최철 삼성전자 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 말했다.

김세형 기자 [e-mail]